- Científicos del Instituto de Óptica de Shanghái construyeron un generador experimental de radiación ultravioleta extrema (EUV).
- El avance representa el componente crítico más complejo para fabricar microprocesadores por debajo de los 5 nanómetros.
- Pekín busca eludir las sanciones impuestas por Estados Unidos y los Países Bajos sobre la importación de máquinas ASML.
- El prototipo emplea láseres de dióxido de carbono de alta potencia y gotas de estaño vaporizadas en plasma magnético.
En un movimiento que sacude los cimientos de la industria global de los semiconductores, un equipo conjunto de investigadores de la Academia China de Ciencias (CAS) y el Instituto de Óptica y Mecánica de Precisión de Shanghái anunció la construcción exitosa de su primer prototipo funcional de fuente de luz ultravioleta extrema (UVE). Este hito científico representa la pieza técnica más codiciada y difícil de replicar en la ingeniería moderna, siendo el corazón indispensable para fabricar los microprocesadores de vanguardia por debajo de los 5 nanómetros que alimentan la inteligencia artificial y las supercomputadoras militares.
Ruptura del bloqueo tecnológico y principio físico
Hasta la fecha, la compañía neerlandesa ASML era la única corporación en el planeta con la capacidad tecnológica de producir equipos de litografía UVE comerciales, cuyas exportaciones hacia territorio chino fueron vetadas formalmente por el gobierno de los Países Bajos bajo presiones diplomáticas de Washington. Frente a ese aislamiento forzado, el gobierno de Pekín inyectó más de USD 40.000 millones en fondos estatales a través del programa Big Fund para alcanzar la autosuficiencia plena en la cadena de silicio.
El diseño experimental chino replica el complejo principio físico de emisión plasmática: un cañón láser de dióxido de carbono de decenas de kilovatios impacta sobre microgotas de estaño líquido que caen al vacío a 50.000 pulsos por segundo. La vaporización de la gota genera un plasma a cientos de miles de grados que emite fotones en una longitud de onda exacta de 13,5 nanómetros, radiación que luego es guiada por espejos de Bragg de reflectividad nanométrica para grabar patrones de transistores sobre las obleas de silicio.
Este esfuerzo de soberanía industrial forma parte de la batalla global por dominar los componentes de cálculo computacional, en paralelo a los desarrollos occidentales donde gigantes del software invierten cientos de millones en silicio propietario para liderar la IA generativa.
Desafíos para la industrialización a gran escala
Pese al optimismo del régimen de Pekín, analistas de la consultora TrendForce advierten que contar con una fuente de luz experimental no equivale a disponer de una máquina de litografía industrial terminada. La integración mecánica, la óptica libre de aberraciones provista tradicionalmente por firmas como Carl Zeiss y los sistemas de posicionamiento magnético de precisión atómica exigirán aún entre tres y cinco años de pruebas continuas antes de alcanzar rendimientos comerciales competitivos.
No obstante, el anuncio confirma que las sanciones occidentales no frenaron el desarrollo técnico chino, sino que aceleraron una carrera de duplicidad tecnológica que dividirá al mercado global de semiconductores en dos bloques completamente autosuficientes.
Científicos de la revista científica Nature destacaron que la generación controlada de plasma a escala nanométrica sitúa a los laboratorios chinos en la cúspide de la física aplicada a semiconductores.
Analistas de la consultora de semiconductores Asociación de la Industria de Semiconductores (SIA) confirmaron que el avance acelerará la competencia tecnológica entre Asia y Occidente en la producción de circuitos lógicos de alta gama.
Científicos de la Academia China de Ciencias señalaron que continuarán perfeccionando la óptica de reflectividad y los sistemas de vacío magnético del prototipo experimental de luz UVE, buscando acortar los plazos hacia la construcción de una máquina litográfica de escala comercial.
El avance científico reafirma la determinación de las instituciones de investigación de Pekín de alcanzar la autosuficiencia tecnológica frente a las restricciones comerciales impuestas por Occidente en la industria de los semiconductores.
