China desarrolla prototipo de fuente de luz UVE para fabricar chips propios
El desarrollo supera el obstáculo técnico más complejo para la litografía ultravioleta extrema. El proyecto fue impulsado por consorcios estatales
litografía uve
ASML admite incapacidad para cubrir demanda de máquinas de chips de IA
El fabricante de semiconductores ASML confirmó una cartera de pedidos récord que satura su producción hasta finales de 2028. TSMC,
China crea prototipo de fuente de luz UVE para fabricar chips avanzados
Científicos del Instituto de Óptica de Shanghái construyeron un generador experimental de radiación ultravioleta extrema (EUV). El avance representa el
China avanza hacia los chips de 5 nm, pero sufre un gran obstáculo técnico
El gigante chino de los semiconductores SMIC está cada vez más cerca de producir chips de 5 nm, pero hay un